ダイオードレーザーは、小型、軽量、高効率などの優れた利点を獲得します。産業、軍事、医療、通信などの多種多様な作業分野で広く使用されている作成当初から高い注目を集めています。 量子井戸導波路構造が制限されているため、出力レーザービームの品質は固体レーザー、CO2レーザーよりもはるかに弱いため、特定の期間において、ダイオードレーザーシステムの開発は大幅に制限されます。
現時点では、エピタキシャル成長半導体材料、ダイオードレーザー導波路構造の最適化、キャビティ表面パッシベーション技術、パッケージング技術、高効率冷却技術により、ダイオードレーザーはさらに高い出力パワーと優れたレーザービーム品質で利用できます。青色レーザーダイオードのアプリケーションは、高品質で高性能のダイオードレーザーシステムと高出力ファイバーポンプ光源に適したレーザー光源を提供しています。
さまざまなハイテク分野で、ダイオードレーザーは常に統合ベースユニットとして使用されており、さまざまな構造と種類のダイオードレーザーユニットがダイオードレーザーシステムの開発に直接貢献しています。レーザービームの出力角度と一定の増加する出力パワーの低減されたレーザービームファン角度の大幅な革新と改善出力電力と利用可能なレーザー波長の幅広い選択の範囲内で、ダイオードレーザーはハイテク作業分野のあらゆる種類のレーザー光源要件を効率的に満たしています。
レーザービームクオリティの絶え間ない改善、およびダイオードレーザーシステムのレーザービームファン角度の削減が可能なレーザーテックエンジニアは、単一波長のファイバーレーザーシステムの大きな革新を実現し、ファイバーカップリングダイオードレーザーモジュールのサイズを縮小し、ピグテールの直径を拡大してパワーを増大させましたさまざまなユーザーの厳密な要件に応じて、ダイオードレーザーシステムを正確に設計することができ、カスタマイズされたデザインも受け入れられます。
化合物半導体技術の進歩により、産業応用の高出力ダイオードレーザーシステムは、その高出力とレーザービーム品質の大きな発展を遂げ、産業応用分野の拡大を図ります。ファイバー結合レーザーシステムの出力は絶えず増加し、ファイバーコアの直径と開口数は減少し続け、その結果、ファイバーレーザーのレーザー光の明るさは常に向上しています。
現在、産業用レーザー加工の分野では、ダイオードレーザーシステムは常に金属レーザー加工に広く応用されています。高出力ダイオードレーザーは、レーザー表面処理、レーザークラッディング、レーザー溶接の近接場、および高出力ファイバーレーザービーム品質の実行可能なレーザー切断およびレーザー溶接分野の高い要件。
